光譜橢偏儀

產(chǎn)品介紹：

光譜橢偏儀是一種靈活的光學(xué)技術(shù)，可用于確定薄膜材料的光學(xué)和物理性能。在沒(méi)有接觸或損害材料的情況下，它的技術(shù)已經(jīng)應(yīng)用于研發(fā)實(shí)驗(yàn)室和用于監(jiān)測(cè)薄膜生長(zhǎng)和沉積過(guò)程的制造設(shè)備。依賴于樣品反射的偏振光束的偏振狀態(tài)的確定。當(dāng)進(jìn)行SE測(cè)量時(shí)，在寬波長(zhǎng)范圍內(nèi)的許多波長(zhǎng)處確定偏振狀態(tài)。通過(guò)模型可以將偏振狀態(tài)的變化追溯到薄膜的物理性質(zhì)。材料的層厚、表面粗糙度、折射率（n）和消光系數(shù)（k）等特性可以通過(guò)回歸分析精度確定。SE儀器使用白光源，并選擇單獨(dú)的波長(zhǎng)進(jìn)行電機(jī)驅(qū)動(dòng)單色儀或可同時(shí)檢測(cè)多個(gè)波長(zhǎng)的多通道檢測(cè)器進(jìn)行檢測(cè)。增加采集數(shù)據(jù)的角度和波長(zhǎng)數(shù)量可提高分析精度，復(fù)雜的層結(jié)構(gòu)。

產(chǎn)品參數(shù)：

主要應(yīng)用：

1.光刻膠、聚酰亞胺、氧化物、氮化物

2.光學(xué)涂層，TiO2，SiO2，Ta2O5 .....

3.半導(dǎo)體化合物，細(xì)胞間隙

4.功能薄膜在MEMS/MOEMS

5.薄膜晶體管（TFT）棧

6.導(dǎo)電氧化物：氧化銦錫

7.涂層的醫(yī)療器械

8.非晶、納米晶薄膜

9.薄金屬層